第一章 物理气相沉积与磁控溅射

物理气相沉积与磁控溅射

1、单选题:
‍下列可用于绝缘靶材镀膜的PVD技术是‎
选项:
A: 直流溅射  
B: 射频溅射  
C: 三极溅射  
D: 低温磁控溅射
答案: 【 射频溅射  

2、单选题:
‍CrN镀层硬度高、摩擦系数小,可代替电镀铬,该镀层常用下列哪种方法制备​
选项:
A: 真空镀膜   
B

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